Spezifikation:
1. Quarzglaskammer mit integriertem Gas und -ablauf
2. Heizung: mit Infrarotlampen, Gesamtleistung: 21 kW
3. Ober- und Unterhitze
4. Laden System: Quarzglas-Fach in der Prozesskammer
5. Laden Bereich: bis zu 156 mm Wafergröße
6. Controller: schnelle PID-Temperaturprozesssteuerung
7. 50 Programme mit je 50 Schritten speicherbar
8. SPS-Steuerung, SIMATIC
9. 7 "Touch Panel zur komfortablen Programmierung und Prozesssteuerung
10. Vakuum bis 10exp.-3 hPa (für Vakuum bis 10exp.-6 hPa Modell RTP-150-HV sehen)
11. Max. Temperatur: 1000 ° C (höher auf Anfrage)
12. Ramp up-Rate: frei programmierbar, max. 75 ° K / s
13. Rücklauf- rate: T = 1000 ° C bis 400 ° C max. 200 K / min
14. T = 400 ° C bis 100 ° C max. 30 K / min.
15. Strom: CEE 3x32 A, 230 V, 3-phasig, + N, 21 kW
16. Kühlung: Wasserkühlung erforderlich
17. Abmessungen: 505 x 504 x 550 mm (BxHxT)
18. Gewicht: ca. 65 kg
【Marke: UNITEMP / GERMAN】