Especificação:
1. para um único wafer de até 100 mm (4 ") ou 100 mm x 100 mm tamanho do substrato
2. câmara de processo de vidro de quartzo fácil mutável com tampa
3. com entradas de gás integrado e tomada
4. 1 fluxo de massa Controller para Nitrogênio (5 nlm = norma litro por minuto) é padrão
5. aquecida por lâmpadas de infravermelhos 18 (20 kW)
6. calor superior e inferior
7. vácuo para o sistema de bomba externa (até 10exp-3 mbar, para até 10exp-6 mbar: ver RTP-100-HV))
8. controlador SPS, SIMATIC
Interface 9. Ethernet
10. 7 "painel de toque para fácil programação e controle de processo
11. máx. temperatura de 1200 ° C
12. controlo da temperatura por termopar
refrigeração 13. água necessária
14. Electricidade: CEE 3x32 A, 230 V, 3 fases, + N, 20 Kw
15. Cooling: Refrigerar de água necessária
16. Dimensão: 503 x 525 x 570 mm (W x D x H)
17. Peso: 70 kg
【Marca: UNITEMP / ALEMÃO】