Spesifikasi:
1. untuk wafer tunggal hingga 100 mm (4 ") atau 100 mm x 100 mm ukuran substrat
2. Proses kaca kuarsa ruang mudah berubah dengan cover
3. dengan di- gas terpadu dan stopkontak
4. 1 Mass Flow Controller untuk Nitrogen (5 NLM = norma liter per menit) adalah standar
5. dipanaskan oleh 18 lampu Infrared (20 kW)
6. atas dan pemanas bawah
7. vakum untuk sistem pompa eksternal (hingga 10exp-3 mbar, hingga 10exp-6 mbar: melihat RTP-100-HV))
8. SPS controller, SIMATIC
antarmuka 9. Ethernet
10. 7 "Touch panel untuk pemrograman yang mudah dan pengendalian proses
11. max. Suhu 1200 ° C
12. kontrol suhu dengan termokopel
pendingin 13. air yang dibutuhkan
14. Listrik: CEE 3x32 A, 230 V, 3 Phase, + N, 20 Kw
15. Pendinginan: pendinginan Air diperlukan
16. Dimensi: 503 x 525 x 570 mm (W x D x H)
17. Berat: 70 kg
【Merek: UNITEMP / GERMAN】