Um método de manufaturar alvos do silicide do metal ou alvos da liga para o uso sputtering compreende as etapas (a) do silicone mecanicamente alloying e de um metal para fornecer um pó do silicide do metal ou um silicone mecanicamente alloying e um plurality de pós do metal para fornecer um pó da liga, (b) e então pressionar o pó do silicide do metal ou o pó da liga. A invenção relaciona-se também aos alvos do silicide do metal ou a liga alveja assim manufactured. Na etapa alloying mecânica, a divisão rápida e fina e o agglomeration do pó misturado são repetidos até que as partículas dos pós materiais estejam divididas finamente a um nível submicrónico. Dão forma a dez dos agregados dos mícrons no diâmetro. Os agregados fazem exame gradualmente de uma forma equi-axed. O Homogenization da mistura material do pó progride a misturar no nível atômico, até que alloying ocorra.

Especificação do Customization
Especificação:
Purity: 99.995%
Densidade: 8.908g/cm3
Ponto de derretimento:1,455°C
Aplicação: Material da película