Een methode om metaalsilicide doelstellingen of legeringsdoelstellingen te vervaardigen voor het sputteren van gebruik bestaat uit de stappen van (a) mechanisch het legeren van silicium en een metaal om een metaalsilicide poeder of mechanisch het legeren silicium en een meerderheid van metaalpoeder te verstrekken om een legering poeder, (b) en dan het drukken van het metaalsilicide poeder of legeringspoeder te verstrekken. De uitvinding heeft ook op de metaalsilicide doelstellingen of zo betrekking vervaardigde legeringsdoelstellingen. In de mechanische het legeren stap, worden de snelle en fijne afdeling en de agglomeratie van het gemengde poeder herhaald tot de deeltjes materieel poeder fijn op een submicronniveau worden verdeeld. Zij vormen complexentientallen microns in diameter. De complexen vergen geleidelijk aan een equi-axed vorm. De homogenisatie van het materiële poedermengsel vordert aan zich het mengen op het atoomniveau, tot het legeren plaatsvindt.

De specificatie van de aanpassing
Specificatie:
Zuiverheid: 99.995%
Dichtheid: 8.908g/cm3
Smeltpunt:1,455°C
Toepassing: Het materiaal van de film