Sebuah metode target silisida manufaktur logam atau target paduan untuk digunakan sputtering terdiri dari langkah-langkah (a) silikon mekanis paduan dan logam untuk memberikan bubuk silisida logam atau silikon mekanis paduan dan pluralitas serbuk logam untuk memberikan bubuk paduan, (b ) dan kemudian menekan bubuk logam silisida atau bubuk paduan. Penemuan ini juga berkaitan dengan target logam silisida atau target paduan jadi diproduksi. Pada langkah paduan mekanik, divisi cepat dan halus dan aglomerasi serbuk campuran diulang sampai partikel dari bubuk bahan yang halus dibagi ke tingkat submikron. Mereka membentuk puluhan agregat mikron dalam diameter. Agregat secara bertahap mengambil bentuk equi-axed. Homogenisasi campuran bahan bubuk berkembang menjadi pencampuran pada tingkat atom, sampai paduan terjadi.

Kustomisasi spesifikasi
Keterangan:
Kemurnian: 99,995%
Densitas: 8.908g/cm ³
Titik lebur: 1.455 C
Aplikasi: Bahan Film