Цель Cr 2012-11-07 03:00:46
Цель Cu Спецификация Customization Очищенность: 99.95% Плотность: 8.92g/cm3 Точка плавления:1084°C Применение: Украшенная пленка, пленка Reflection, пленка Conductiv ...
Sputter покрывать 2012-11-07 03:00:36
Спецификация Customization Мы можем изготовить наши цели к более плотно спецификациям для экстренной обязанности изготовления. Очищенность: 99.99% Плотность: 19.3g/ ...
Цель ZnO 2012-11-07 03:00:29
Спецификация Customization Очищенность: 99.999% Плотность: 2.7g/cm3 Точка плавления:660°C Применение: Украшенная пленка, пленка Reflection Мы поручены к удолетворен ...
Цель Ta 2012-11-07 03:00:22
Цель SiAl Материалы имеющиеся в очищенностях колебаясь от 99.9% до 99.9999% и имеющиеся для всего – систем sputtering круглого, прямоугольного, S-Gun, Delta, и Ring. ...