Русско
English
Deutsch
Español
Português
Français
Türk
Italiano
Nederlands
हिन्दी
Bahasa Indonesia
Sputter PVD 2012-11-07 02:58:44
Цель TiW Мы обеспечиваем всестороннюю поддержку для процессов sputtering, включая спасение и рециркулировать утиля и спасение драгоценныа металлы на частях. Специфи ...
PVD Sputter 2012-11-07 02:57:13
Цель TiW Состав сплава и добавленные окиси были более осложненными чем раньше из-за увеличенной емкости трудного диска. С нашей технологией, по возможности изготовит ...
PVD Sputtering 2012-11-07 02:57:03
Спецификация Customization Цели с точно и равномерно распределенные окиси имеют немногие частицы включает стабилизированный sputtering. Спецификация: Применение: От ...
Цель PVD 2012-11-07 02:56:57
Спецификация Customization Наша компания изготовляет весьма высокосортные цели sputtering содержа окиси для высокомарочных средств записи путем использовать уникальн ...
Цели PVD 2012-11-07 02:56:50
Цель SiO2 Как leading компания материалов sputtering, наша компания будет продолжаться соотвествовать или превысить ожиданностям нашего клиента в поле все больше и б ...