Het Doel van Cr 2012-11-07 03:00:46
Het doel van Cu De specificatie van de aanpassing Zuiverheid: 99.95% Dichtheid: 8.92g/cm3 Smeltpunt:1084°C Toepassing: Verfraaide film, Reflection film, film Conduct ...
Sputter Deklaag 2012-11-07 03:00:36
De specificatie van de aanpassing Wij kunnen onze doelstellingen aan strakkere specificaties voor een extra vervaardigingslast vervaardigen. Zuiverheid: 99.99% Dich ...
Het Doel van ZnO 2012-11-07 03:00:29
De specificatie van de aanpassing Zuiverheid: 99.999% Dichtheid: 2.7g/cm3 Smeltpunt:660°C Toepassing: Verfraaide film, film Reflection Wij zijn geëngageerd aan 100% ...
Het Doel van Ta 2012-11-07 03:00:22
Het doel van SiAl De materialen zijn beschikbaar in zuiverheid die zich van 99.9% uitstrekken tot 99.9999% en zijn beschikbaar voor al sputterende systemen– ronde, r ...