Magnetron Sputtering Alvo fabricantes

Desde mensagem 2013-04

Opetech-Materials Group Co., Ltd

Catálogo de produto » Magnetron Sputtering Alvo

Total 4 Os produtos da categoria de Magnetron Sputtering Alvo

Mostrar : 30 Itens

Alvo do Cr 2012-11-07 03:00:46

Alvo do Cu Especificação do Customization Purity: 99.95% Densidade: 8.92g/cm3 Ponto de derretimento:1084°C Aplicação: Película decorada, película de Reflection, pelí ...

Sputter revestir 2012-11-07 03:00:36

Especificação do Customization Nós podemos manufaturar nossos alvos a umas especificações mais apertadas para uma carga extra da fabricação. Purity: 99.99% Densidad ...

Alvo de ZnO 2012-11-07 03:00:29

Especificação do Customization Purity: 99.999% Densidade: 2.7g/cm3 Ponto de derretimento:660°C Aplicação: Película decorada, película de Reflection Nós somos cometi ...

Alvo de Ta 2012-11-07 03:00:22

Alvo de SiAl Os materiais estão disponíveis nos purities que variam de 99.9% a 99.9999% e estão disponíveis para todo o – dos sistemas sputtering redondo, retangular ...

Casa » Diretórios do Produto » Opetech-Materials Group Co., Ltd