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Magnetron Sputtering alvo
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Alvo do Cr 2012-11-07 03:00:46 Alvo do Cu Especificação do Customization Purity: 99.95% Densidade: 8.92g/cm3 Ponto de derretimento:1084°C Aplicação: Película decorada, película de Reflection, pelí ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan] 
Sputter revestir 2012-11-07 03:00:36 Especificação do Customization Nós podemos manufaturar nossos alvos a umas especificações mais apertadas para uma carga extra da fabricação. Purity: 99.99% Densidad ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan]
Alvo de ZnO 2012-11-07 03:00:29 Especificação do Customization Purity: 99.999% Densidade: 2.7g/cm3 Ponto de derretimento:660°C Aplicação: Película decorada, película de Reflection Nós somos cometi ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan]
Alvo de Ta 2012-11-07 03:00:22 Alvo de SiAl Os materiais estão disponíveis nos purities que variam de 99.9% a 99.9999% e estão disponíveis para todo o – dos sistemas sputtering redondo, retangular ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan]
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