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Magnetron Sputtering di destinazione
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Obiettivo del Cr 2012-11-07 03:00:46 Obiettivo del Cu Specifica di adattamento Purezza: 99.95% Densità: 8.92g/cm3 Punto di fusione:1084°C Applicazione: Pellicola decorata, pellicola di Reflection, pelli ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan] Polverizzi ricoprire 2012-11-07 03:00:36 Specifica di adattamento Possiamo produrre i nostri obiettivi alle specifiche più strette per una carica supplementare di montaggio. Purezza: 99.99% Densità: 19.3g/ ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan] Obiettivo di ZnO 2012-11-07 03:00:29 Specifica di adattamento Purezza: 99.999% Densità: 2.7g/cm3 Punto di fusione:660°C Applicazione: Pellicola decorata, pellicola di Reflection Siamo impegnati in sodd ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan] Obiettivo dell'AT 2012-11-07 03:00:22 Obiettivo di SiAl I materiali sono disponibili nelle purezze che variano da 99.9% a 99.9999% e sono disponibili per tutto il – dei sistemi di polverizzazione rotondo ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan]
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