Totaal
4
producten categorie
Magnetron sputteren Target
Sorteer op
:
Belang
Toon
:
30 Artikelen
Het Doel van Cr 2012-11-07 03:00:46 Het doel van Cu De specificatie van de aanpassing Zuiverheid: 99.95% Dichtheid: 8.92g/cm3 Smeltpunt:1084°C Toepassing: Verfraaide film, Reflection film, film Conduct ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan] Sputter Deklaag 2012-11-07 03:00:36 De specificatie van de aanpassing Wij kunnen onze doelstellingen aan strakkere specificaties voor een extra vervaardigingslast vervaardigen. Zuiverheid: 99.99% Dich ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan] Het Doel van ZnO 2012-11-07 03:00:29 De specificatie van de aanpassing Zuiverheid: 99.999% Dichtheid: 2.7g/cm3 Smeltpunt:660°C Toepassing: Verfraaide film, film Reflection Wij zijn geëngageerd aan 100% ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan] Het Doel van Ta 2012-11-07 03:00:22 Het doel van SiAl De materialen zijn beschikbaar in zuiverheid die zich van 99.9% uitstrekken tot 99.9999% en zijn beschikbaar voor al sputterende systemen– ronde, r ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan]
1
Verwante Catalogi van Magnetron sputteren Target |
Our Service
Wij zijn de toonaangevende fabrikanten die een kwaliteit scala aan Magnetron sputteren Target . Ons bedrijf wordt ondersteund door een superieure en geavanceerde productietechnieken met een onberispelijke kwaliteit producten aan te bieden aan onze klanten. Door onze klant gerichte benadering, bieden wij u hoogwaardige producten tegen toonaangevende prijzen en ervoor te zorgen dat de bestelde zendingen te leveren binnen de gestelde termijn. Goede kwaliteit, redelijke prijs en de 5-sterren service zijn gegarandeerd.
|