Русско
English
Deutsch
Español
Português
Français
Türk
Italiano
Nederlands
हिन्दी
Bahasa Indonesia
Цель Cr 2012-11-07 03:00:46
Цель Cu Спецификация Customization Очищенность: 99.95% Плотность: 8.92g/cm3 Точка плавления:1084°C Применение: Украшенная пленка, пленка Reflection, пленка Conductive Нашей целью должна быть в ...
Sputter покрывать 2012-11-07 03:00:36
Спецификация Customization Мы можем изготовить наши цели к более плотно спецификациям для экстренной обязанности изготовления. Очищенность: 99.99% Плотность: 19.3g/cm3 Точка плавления:1064°C При ...
Цель ZnO 2012-11-07 03:00:29
Спецификация Customization Очищенность: 99.999% Плотность: 2.7g/cm3 Точка плавления:660°C Применение: Украшенная пленка, пленка Reflection Мы поручены к удолетворению потребностей клиента 100%. ...
Цель Ta 2012-11-07 03:00:22
Цель SiAl Материалы имеющиеся в очищенностях колебаясь от 99.9% до 99.9999% и имеющиеся для всего – систем sputtering круглого, прямоугольного, S-Gun, Delta, и Ring. Нестандартные конструкции так ...
Материал Sputtering 2012-11-07 02:59:48
Цель Zr Использовано для обрабатывать диски молибдена, и фольг. Они использованы в высокотемпературной конструкции печи вакуума и водопод-атмосферы Пакет: Деревянный случай с доской пены Специф ...
Материалы цели 2012-11-07 03:00:00
Цель ZnS Цели Sputtering произведены для пользы в sputtering драгоценныа металлы и магнитные материалов, таким образом увеличивая использование цели. Через конструкцию инженерства, увеличенный п ...
Материалы Sputtering 2012-11-07 02:59:36
Мы используем разнообразие специализированные метода обработки such as горячий отжимать, горячий изостатический отжимать (HIP), холодный изостатический отжимать (CIP), плавить вакуума индукции, и ...
Цель AlN 2012-11-07 02:59:27
Цель ZnAl От стандартных, одиночных материалов элемента к смесям таможни, малой multi-плитки циркуляра и шагнутых конструкций, товарныйа сорт к ультравысоким очищенностям, Angstrom Sciences обесп ...
Цели Sputter 2012-11-07 02:59:12
Цель Y2O3 Потому что весь из наших сплавов сделаны в доме в одном из нашего много вакуумируют системы индукции, мы могут сформулировать точно сплав, котор вы для вашего физического требования к н ...
Sputter PVD 2012-11-07 02:58:44
Цель TiW Мы обеспечиваем всестороннюю поддержку для процессов sputtering, включая спасение и рециркулировать утиля и спасение драгоценныа металлы на частях. Спецификация: Спецификация Customizat ...
PVD Sputter 2012-11-07 02:57:13
Цель TiW Состав сплава и добавленные окиси были более осложненными чем раньше из-за увеличенной емкости трудного диска. С нашей технологией, по возможности изготовить цели которые приспосабливают ...
PVD Sputtering 2012-11-07 02:57:03
Спецификация Customization Цели с точно и равномерно распределенные окиси имеют немногие частицы включает стабилизированный sputtering. Спецификация: Применение: Отснятый материал Очищенность: 9 ...
Цель PVD 2012-11-07 02:56:57
Спецификация Customization Наша компания изготовляет весьма высокосортные цели sputtering содержа окиси для высокомарочных средств записи путем использовать уникально производственный прочесс поз ...
Цели PVD 2012-11-07 02:56:50
Цель SiO2 Как leading компания материалов sputtering, наша компания будет продолжаться соотвествовать или превысить ожиданностям нашего клиента в поле все больше и больше изощренной тонкопленочно ...
АЗО цель 2012-11-07 02:56:36
Цель кремния Материалы драгоценныа металлы тонкопленочные изготовленные с нашей технологией спекать высоки сосчитаны в индустрии электроники, определенно в индустриях полупроводника и магнитного ...
Цель ITO 2012-11-07 02:56:29
Цель Sputtering Материал: Титан (Ti), Tungsten (w), Molybdenum (Mo), Tantalum (Ta), Niobium (N B), Silver (Ag), Silicon (кремний), Aluminum (Al) Chromium (Cr), цель sputtering Oxide, цель sputteri ...
Тонкопленочно Sputter 2012-11-07 02:56:23
︰ упаковки вакуум ︰ спецификации высокий чисто металл Magnesium, окись Magnesium, фторид Magnesium ︰ преимущества очень competitory цена и highquality с быстро временем пос ...
Тонкопленочный Sputtering 2012-11-07 02:56:14
Цель пинты Относительно других примесей чем Ta и кислород в цели sputtering присытствыющего вымысла, до приблизительного уровня общецелевого высокочистого материала металла, небольшое количество ...
Цель Ge 2012-11-07 02:56:07
Цель осмия Цель sputtering присытствыющего вымысла можно изготовить в following дорогах for instance. Спецификация Customization Спецификация: Очищенность: 99.99% Плотность: 22.661g/cm3 Применен ...
Цели CIGS 2012-11-07 02:55:51
Цель NiV Цель sputtering присытствыющего вымысла consist of высокочистое N B. Сказано что количество элемента примеси в цели sputtering вообще желательно для уменьшения. В присытствыющем вымысле, ...
Медная цель 2012-11-07 02:55:27
Цель NiCr Изготовление силицида и сплава пристреливает далеко однотиповое и точно в структурах чем обычные продукты теперь по возможности. В случае целей силицида, цели sputtering силицида металл ...
Цель Sputter 2012-11-07 02:55:17
Цель NiCr Присытствыющий вымысел относит к методу изготовлять цели для sputtering польза, и более специфически к методу целей sputtering изготавливания, котор характеризует путем отжимать порошок ...
Цели металла 2012-11-07 02:55:11
Метод изготовлять цели силицида металла или цели сплава для пользы sputtering состоит из шагов (a) механически сплавляя кремния и металла для того чтобы обеспечить порошок силицида металла или мех ...
Цель металла 2012-11-07 02:54:29
Применение Скреплять для различных целей металла. Скреплять для трудной и crispy керамической цели. Скреплять для цели используемой в широкомасштабной индикации. Спецификация: Очище ...
Оптически тонкие пленки 2012-11-07 02:53:55
Ключом к своему добавленному значени значению будет буквальн гибкость своего декоративного цвета пленки. Он главным образом увеличивает яркость цвета сами и твердости продуктов, пока также уменьша ...
Оптически тонкопленочное покрытие 2012-11-07 02:53:46
Самые предварительные продукты цели sputtering сделанные горячим изостатическим давлением. Они имеют 4 характеристики I.E. High purity, высокую плотность, хорошую организационную структуру, длинни ...
Цель кремния 2012-11-07 02:53:39
Всестороннее и увеличивая видами материала окиси, этими материал окиси будут польза в Ceramic, покрытии Thin film, IC, Optical, Optical Communication, Electronics, Enamelling, индустрии Display. ...
Цель кремния 2012-11-07 02:53:32
Упаковка: Деревянный случай или как ваше требование Мы можем также произвести другой ломтик молибдена формы согласно требованию к и рисовать клиентов Спецификация Customization Спецификация: Цел ...
Sputter Coater 2012-11-07 02:53:24
Высокочистый материал цели sputtering металла (3N-6N): Алюминиевая цель, цель хромия, медная цель, цель никеля, цель кремния, цель германего, цель ниобия, titanium цель, цель индия, серебряная цел ...
Цель N B 2012-11-07 02:52:37
Highquality, благоприятное цена и большаяа заслуга Пожалуйста чывство свободно, котор нужно контактировать! Дайте нас ваши рисует, мы смогите предложить вам продукты с низким ценой. Спецификац ...