Materiais do alvo
Artigo no. : | ST35 |
Detalhes do fornecedor
País
: Taiwan
Cidade
: HsinChu
Endereço
: No.16, Ln.727, Sec.2, Yen-ping Road
TEL: +886-03-5304953
Fax
: +886-03-5362817
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Sala de exposições em linha
:
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Alvo de ZnS
Os alvos Sputtering são produzidos para o uso no sputtering de metais preciosos e de materiais magnéticos, aumentando desse modo a utilização do alvo. Com o projeto da engenharia, o perfil realçado fornece fatores da utilização distante no excesso daqueles encontrados convencionalmente em alvos projetados planar.
Especificação:
Purity: 99.99%
Escala de Pervious: 400-14.000 nanômetro
Densidade: 4.09g/cm3
Refraction: nanômetro 2.35/550
Ponto de derretimento: 1,700°C
Aplicação: película das películas finas .AR de .Optical.
Especificação do Customization
Os alvos Sputtering são produzidos para o uso no sputtering de metais preciosos e de materiais magnéticos, aumentando desse modo a utilização do alvo. Com o projeto da engenharia, o perfil realçado fornece fatores da utilização distante no excesso daqueles encontrados convencionalmente em alvos projetados planar.
Especificação:
Purity: 99.99%
Escala de Pervious: 400-14.000 nanômetro
Densidade: 4.09g/cm3
Refraction: nanômetro 2.35/550
Ponto de derretimento: 1,700°C
Aplicação: película das películas finas .AR de .Optical.
Especificação do Customization