Materiale di grande purezza dell'obiettivo di polverizzazione del metallo (3N-6N):
Obiettivo di alluminio, obiettivo del bicromato di potassio, obiettivo di rame, obiettivo del nichel, obiettivo del silicone, obiettivo del germanio, obiettivo del niobio, obiettivo di titanio, obiettivo dell'indio, obiettivo d'argento, obiettivo della latta, obiettivo della grafite, obiettivo del tantalio, obiettivo del molibdeno, obiettivo dell'oro, obiettivo dell'afnio, obiettivo del manganese, obiettivo dello zirconio, obiettivo del magnesio, obiettivo dello zinco, obiettivo del cavo, obiettivo dell'iridio, obiettivo dell'ittrio, obiettivo del cerio, obiettivo del lantanio, obiettivo dell'itterbio, obiettivo di gadolinium, obiettivo del platino, ecc

Specifica:

Obiettivo HfO2
Purezza: 99.99%
Gamma di Pervious: 230-7.000 nanometro
Densità: 9.68g/cm3
Rifrazione: nanometro 2.00/550　　　
Punto di fusione: 2,774°C
Applicazione: pellicola ottica delle pellicole sottili .UV. Specchio
Specifica di adattamento