Het doel van NiCr

De vervaardiging van silicide en legering richt veel meer homogeen en fijner in structuren dan de conventionele producten nu mogelijk is. In het geval van silicide doelstellingen, metaalsilicide kunnen de sputterende doelstellingen van homogene, fijne kristalstructuren met vrije siliciumfasen 5 .mu.m of kleiner in grootte en met zuurstofconcentraties van 500 p.p.m. (in gewicht) of minder die moeilijk zijn geweest conventioneel te vervaardigen nu worden gemaakt. Aangezien de deeltjesmoeilijkheid wordt overwonnen terwijl de verontreiniging met zuurstof wordt verminderd, zullen de potentiële toekomstige eisen ten aanzien van verdere homogeniteit en fijnheid van de structuren van het doelkristal met. zijn.

Specificatie:

Toepassing: optische dunne films.protect film
De specificatie van de aanpassing