Cibles de CIGS
Numéro d'article. : | ST21 |
Fournisseur Détails
Pays
: Taiwan
Ville
: HsinChu
Adresse
: No.16, Ln.727, Sec.2, Yen-ping Road
TEL: +886-03-5304953
Fax
: +886-03-5362817
Salle d'exposition en ligne
:
39 Produits
Cible de NiV
Une cible de pulvérisation de la présente invention se compose de la NOTA: de grande pureté. On lui dit qu'il est généralement souhaitable réduire une quantité d'élément d'impureté dans la cible de pulvérisation. Dans la présente invention, un élément d'impureté influençant en particulier sur des caractéristiques d'un film de NOTA: déposé avec une cible de NOTA: de la présente invention est trouvé. Basé sur la conclusion ci-dessus, une quantité d'un élément particulier est réduite et la dispersion de la quantité de l'élément d'impureté est supprimée bas.
Spécifications de personnalisation
Spécifications :
Application : protégez le film
Une cible de pulvérisation de la présente invention se compose de la NOTA: de grande pureté. On lui dit qu'il est généralement souhaitable réduire une quantité d'élément d'impureté dans la cible de pulvérisation. Dans la présente invention, un élément d'impureté influençant en particulier sur des caractéristiques d'un film de NOTA: déposé avec une cible de NOTA: de la présente invention est trouvé. Basé sur la conclusion ci-dessus, une quantité d'un élément particulier est réduite et la dispersion de la quantité de l'élément d'impureté est supprimée bas.
Spécifications de personnalisation
Spécifications :
Application : protégez le film