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Dal momento che il messaggio 2013-04
Opetech-Materials Group Co., Ltd
Catalogo di prodotto » Magnetron Sputtering target
Totale 4 prodotti della categoria dei Magnetron Sputtering target
Obiettivo del Cr

Obiettivo del Cr 2012-11-07 03:00:46

Obiettivo del Cu Specifica di adattamento Purezza: 99.95% Densità: 8.92g/cm3 Punto di fusione:1084°C Applicazione: Pellicola decorata, pellicola di Reflection, pelli ...

Polverizzi ricoprire

Polverizzi ricoprire 2012-11-07 03:00:36

Specifica di adattamento Possiamo produrre i nostri obiettivi alle specifiche più strette per una carica supplementare di montaggio. Purezza: 99.99% Densità: 19.3g/ ...

Obiettivo di ZnO

Obiettivo di ZnO 2012-11-07 03:00:29

Specifica di adattamento Purezza: 99.999% Densità: 2.7g/cm3 Punto di fusione:660°C Applicazione: Pellicola decorata, pellicola di Reflection Siamo impegnati in sodd ...

Obiettivo dell'AT

Obiettivo dell'AT 2012-11-07 03:00:22

Obiettivo di SiAl I materiali sono disponibili nelle purezze che variano da 99.9% a 99.9999% e sono disponibili per tutto il – dei sistemi di polverizzazione rotondo ...

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