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Pulvérisation magnétron cible
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Cible de Cr 2012-11-07 03:00:46 Cible de Cu Spécifications de personnalisation Pureté : 99.95% Densité : 8.92g/cm3 Point de fusion :1084°C Application : Film décoré, film de Reflection, film de Con ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan] 
Pulvérisez enduire 2012-11-07 03:00:36 Spécifications de personnalisation Nous pouvons fabriquer nos cibles selon des caractéristiques plus serrées pour une charge supplémentaire de fabrication. Pureté : ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan]
Cible de ZnO 2012-11-07 03:00:29 Spécifications de personnalisation Pureté : 99.999% Densité : 2.7g/cm3 Point de fusion :660°C Application : Film décoré, film de Reflection Nous sommes commis à la ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan]
Cible de Ta 2012-11-07 03:00:22 Cible de SiAl Les matériaux sont disponibles dans les puretés s'étendant de 99.9% à 99.9999% et sont disponibles pour tout le – de systèmes de pulvérisation rond, re ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan]
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