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Metall-Sputter
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CIGS Ziele 2012-11-07 02:55:51 NiV Ziel Ein Spritzenziel der anwesenden Erfindung besteht aus von hohem Reinheitsgrad Notiz:. Es wird gesagt, dass eine Menge des Verunreinigung Elements im Spritze ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan] 
Kupfernes Ziel 2012-11-07 02:55:27 NiCr Ziel Die Herstellung von Silicide und von Legierung zielt weit homogeneres und feiner in den Strukturen, als herkömmliche Produkte jetzt möglich ist. Im Falle d ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan]
Ziel spritzen 2012-11-07 02:55:17 NiCr Ziel Die anwesende Erfindung bezieht auf einer Technik des Fabrizierens der Ziele für Gebrauch spezifischer spritzen und auf einer Methode Herstellung der Sprit ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [Taiwan]
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