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Magnetron sputtering लक्ष्य
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कॉपर लक्ष्य 2012-11-07 03:00:46 घन लक्ष्य अनुकूलन विनिर्देश पवित्रता: 99.95% घनत्व: 3 8.92g/cm गलनांक: 1084C आवेदन: सजाया फिल्म, प्रतिबिंब फिल्म, प्रवाहकीय फिल्म हमारा लक्ष्य क ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [ताइवान] 
गोल्ड लक्ष्य 2012-11-07 03:00:36 अनुकूलन विनिर्देश हम अपने लक्ष्य को एक अतिरिक्त निर्माण प्रभारी के लिए सख्त विनिर्देशों के लिए निर्माण कर सकते हैं. पवित्रता: 99.99% घनत्व: 3 19.3g/cm गलन ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [ताइवान]
अल लक्ष्य 2012-11-07 03:00:29 अनुकूलन विनिर्देश शुद्धता: 99,999% घनत्व: 3 2.7g/cm गलनांक: 660C आवेदन: सजाया फिल्म, प्रतिबिंब फिल्म हम 100% ग्राहकों की संतुष्टि के लिए प्रतिबद्ध हैं. ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [ताइवान]
धातु लक्ष्य 2012-11-07 03:00:22 SIAL लक्ष्य सामग्री 99.9999% 99.9% से लेकर purities में उपलब्ध हैं और sputtering के सभी प्रणालियों के लिए उपलब्ध हैं - दौर, आयताकार, एस गन, डेल्टा, और अँगूठी. कस्ट ... Opetech-Materials Group Co., Ltd [ताइवान]
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